fachmedien.de - spezialisierte Fachinformationen für Studium und Beruf
fachmedien.de - spezialisierte Fachinformationen für Studium und Beruf
fachmedien.de - spezialisierte Fachinformationen für Studium und Beruf
fachmedien.de - spezialisierte Fachinformationen für Studium und Beruf
fachmedien.de - spezialisierte Fachinformationen für Studium und Beruf

Site Breadcrumb

Verkauf durch Sack Fachmedien

Williams

Plasma Processing of Semiconductors

Medium: Buch
ISBN: 978-0-7923-4567-1
Verlag: Springer
Erscheinungstermin: 31.05.1997
In den Warenkorb
Lieferfrist: bis zu 10 Tage
Auf die Merkliste Drucken
Leseprobe
Überschrift

Beschreibung

Kostenloser Versand

nach Deutschland, Österreich und in die Schweiz

Bequem zahlen

Rechnung, Kreditkarte, PayPal oder Bankeinzug

Wir sind gerne für Sie da

0800 000-1378 (Inland)
service@fachmedien.de
<<Kontaktformular>>

Fragen

Fragen Lorem ipsum dolor sit amet, consetetur sadipscing elitr, sed diam nonumy eirmod tempor invidunt ut labore et dolore magna aliquyam erat, sed diam voluptua
Anwtorten

Anwtorten At vero eos et accusam et justo duo dolores et ea rebum. Stet clita kasd gubergren, no sea takimata sanctus est Lorem ipsum dolor sit amet. Lorem ipsum dolor sit amet

contains 28 contributions from 18 experts and covers plasma etching, plasma deposition, plasma-surface interactions, numerical modelling, plasma diagnostics, less conventional processing applications of plasmas, and industrial applications.
Coverage ranges from introductory to state of the art, thus the book is suitable for graduate-level students seeking an introduction to the field as well as established workers wishing to broaden or update their knowledge.

Produkteigenschaften

  • Artikelnummer: 9780792345671
  • Medium: Buch
  • ISBN: 978-0-7923-4567-1
  • Verlag: Springer
  • Erscheinungstermin: 31.05.1997
  • Sprache(n): Englisch
  • Auflage: 1997
  • Serie: NATO Science Series E:
  • Produktform: Gebunden, HC runder Rücken kaschiert
  • Gewicht: 1098 g
  • Seiten: 613
  • Format (B x H x T): 160 x 241 x 38 mm
  • Ausgabetyp: Kein, Unbekannt

Themen

Autoren/Hrsg.

Herausgeber

Plasma Etching.- to Plasma Etching.- Plasma Chemistry, Basic Processes and PECVD.- The Role of Ions in Reactive Ion Etching with Low Density Plasmas.- SiO2 Etching in High-Density Plasmas: Differences with Low-Density Plasmas.- Plasma Deposition.- to Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition.- Topography Evolution During Semiconductor Processing.- Deposition of Amorphous Silicon.- Plasma Sources.- High Density Sources for Plasma Etching.- Resonant Plasma Excitation by Electron Cyclotron Waves—Fundamentals and Applications.- The Transition from Capacitive to Inductive to Wave Sustained Discharges.- Physics of Surface-Wave Discharges.- Plasma-Surface Interactions.- Surface Science Aspects of Etching and Wall Reactions in High Density Plasmas.- Plasma-Surface Interactions.- Cl2 Plasma-Si Surface Interactions in Plasma Etching.- Numerical Modeling.- Particle in Cell Monte Carlo Collision Codes (PIC-MCC); Methods and Applications to Plasma Processing.- Fluid and Hybrid Models of Non Equilibrium Discharges.- Plasma Diagnostics.- Optical Diagnostics of Processing Plasmas.- Optical Diagnostics of Plasmas: A Tool for Process Control.- Infrared Absorption Spectroscopy as a Diagnostic for Processing Plasmas.- Ellipsometric Analysis of Plasma Deposited and Plasma Etched Materials.- Mass Spectrometry of Reactive Plasmas.- Less Conventional Processing Applications of Plasmas.- Deposition of Silicon Dioxide Films using the Helicon Diffusion Reactor for Integrated Optics Applications.- Remote Plasma Processing.- Magnetized Surface-Wave Discharges for Submicrometer Pattern Transfer.- Dusty Plasmas: Fundamental Aspects and Industrial Applications.- Industrial Application of Plasmas for Processing.- Low Energy Plasma Beams for Semiconductor Technology.- Process Control Concepts.- Issuesand Solutions for Applying Process Control to Semiconductor Manufacturing.